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目前常用的拋光方法有幾(jǐ)種(zhǒng)呢?

返回列表 來源: 發布日期:2020-12-09

隨著塑料製品日溢廣泛的應用,如日化(huà)用品和飲料包裝容器等,外觀的需要往往要求塑料模具型腔的表麵達到(dào)鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模(mó)具(jù)對表麵粗糙度要求極高,因而對拋光性(xìng)的要求也極高。

  1 機械(xiè)拋光

  機械拋光是*切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到(dào)平滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手(shǒu)工操作為主,特(tè)殊(shū)零件如回轉體表麵,可使用轉台等輔助工具,表麵質量 要求高的可采(cǎi)用超精研拋的方法。

  超精研(yán)拋是采用特製的磨具,在含有磨料的研拋液中(zhōng),緊(jǐn)壓在工件被加工表麵上,作高速旋轉運動。利(lì)用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法(fǎ)中最高的。光(guāng)學鏡片(piàn)模具常采用這種方(fāng)法。

  2 化學(xué)拋光

  化(huà)學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸(tū)出的部分(fèn)較凹部分優先溶解,從而得到平滑麵(miàn)。這種方法的(de)主要優點是不需複雜設備,可(kě)以拋(pāo)光形狀複雜(zá)的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核(hé)心(xīn)問題是拋光液的(de)配製。化學拋光得到的表麵粗(cū)糙度一般為數10μm。

  3 電解拋光

  電(diàn)解拋光基本原理與化學(xué)拋光(guāng)相同,即*選擇性(xìng)的溶解材料表麵(miàn)微小凸出部分,使表麵光滑。與化學拋光相比,可以消除(chú)陰極反應的影響,效果較好。電化學拋光過程分(fèn)為兩步(bù):

  (1)宏觀整平 溶解產物向電(diàn)解液中擴散,材(cái)料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。

  (2)微光平整 陽(yáng)極極化,表麵光亮度提高,Ra<1μm。

  4 超聲波拋光

  將工件(jiàn)放入磨料懸浮液中並(bìng)一起置於超聲波場中,依*超聲波的振蕩作用,使磨料在工(gōng)件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小(xiǎo),不會引起工件變形,但工裝製作和安裝較困難。超(chāo)聲波加工(gōng)可以與(yǔ)化學或電化學方法結合。在溶(róng)液腐(fǔ)蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動(dòng)攪(jiǎo)拌溶液,使工(gōng)件表麵溶解產物脫離,表麵(miàn)附近的腐蝕或電解質均(jun1)勻;超聲(shēng)波在液體中的空化作(zuò)用還能夠抑製腐蝕過程,利於表麵光亮化(huà)

  5 流體拋(pāo)光

  流體(tǐ)拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達(dá)到拋光(guāng)的目(mù)的。常用方(fāng)法(fǎ)有:磨料噴射加工、液體噴射加(jiā)工、流體動力研(yán)磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使(shǐ)攜帶(dài)磨(mó)粒的液體介(jiè)質高速往複流(liú)過工件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特(tè)殊化合物(聚合(hé)物狀物質)並摻(chān)上磨料製成,磨料可采用碳(tàn)化矽粉(fěn)末。

  6 磁研磨拋(pāo)光

  磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成(chéng)磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量(liàng)好,加工條件容(róng)易控製,工作條件好。采用(yòng)合適的磨料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

  在塑料(liào)模具加工中所說的(de)拋光與其他行業中所要求的表麵(miàn)拋光有(yǒu)很大的不同,嚴格(gé)來說,模具(jù)的拋(pāo)光應該稱為鏡麵(miàn)加工。它不(bú)僅對拋光本身有很高的要求並(bìng)且對(duì)表麵平(píng)整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光(guāng)亮的表麵即可。

  標簽:深圳塑膠模具廠

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